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气体注入设备

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产品概述

卓远半导体运用先进工艺,以气体注入工艺技术为核心,研发出气休注入设备,需搭配我司 Intelligent MPCVD Diamond Growth System (IMD)系列金刚石晶体生长系统使用。
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气体注入设备


Intelligent Gas Injection System (IGI)系列气体注入系统,采用微波电浆化学气相沉积法(MPCVD)制备,主要用于金刚石长晶过程中的气体注入。

 

技术参数

序号

项目

规格/参数

01

尺寸

700(W)*580(D)*1720(H)mm

02

重量

150kg

03

电压

3Φ220V±10%/50Hz/60Hz

04

电流

5A

05

CDA压力

2-4 kg/cm2

06

主要气体管道

H₂
关键词:

气体注入

金刚石

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